美国NXQ以卓越的性能，经济的价格，深受全球用户喜爱，截至2016年底，超过5000台NXQ曝光系统遍布全世界科研实验室，研发中心。
NXQ4000系列半自动掩膜对准曝光系统，融合了独立的模块化设计，精准控制对准和曝光等特点，自动程序控制使得该系统易于操作存储和使用，适合实验室多用户使用。
该系统特点：
NXQ4000系列半自动掩膜对准曝光系统，融合了独立的模块化设计，精准控制对准和曝光等特点，自动程序控制使得该系统易于操作存储和使用，适合实验室多用户使用。
该系统特点：
使用领域（包括但不限于下述领域的光刻工艺）
该系统特点：
