杜邦EKC270刻蚀残留物去除剂特点：

• 制定的金属堆栈完整性  

• “改进”宽窗口处理能力

• 强化蚀刻残余物去除

• 清洗的掩膜减少化学残留

• 超大规模集成电路（ULSI）级规格先进封装清洗

• 工作温度下蒸发速率低

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杜邦EKC270刻蚀残留物去除剂特点：

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• 工作温度下蒸发速率低
  

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• 工作温度下蒸发速率低