Nikon 步进光刻机：

技术指标及功能

广泛应用于生产线，是6英寸，8英寸等主力I线生产机台，适用于I线光刻胶的曝光，操作简单，曝光精度准，解析力最高可达0.35UM （350NM）

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技术指标及功能

适用于分辨率不低于0.65μm的大规模集成电路工艺器件量产的G-line步进式光刻机。

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技术指标及功能

把掩膜版上的图形按照一定的比例缩小复制到涂布有光刻胶的晶圆上，分区域进行步进式曝光。本机台可用于125mm×125mm掩模和φ100mm及150mm的晶圆高精度投影曝光，曝光精度可达500nm。
　　　基本指标1. RESOLUTION：0.5μm
　　　        2. LENS DISTORTION：≤0.9μm
　　　　　　　3. RETICLE ALIGNMENT ACCURACY：≤0.02μm
　　　　　　　4. STEPPING ACCURACY：≤0.08μm
　　　　　　　5. OVERLAY ACCURACY：≤0.15μm(X,Y)
　　　　　　  6. OPEN FLAME(MAX. EXPOSURE AREA)：17.5×17.5mm

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