化学机理概要：

碳氢化合物：提供沉积材料

氢气：生成sp3键

氧：对石墨相/sp2键侵蚀

惰性气体：缓冲气体，或生成纳米晶体。

适用合成材料：

大尺寸宝石级单晶钻石

高取向度金刚石晶体

纳米结晶金刚石

碳纳米管/类金刚石碳（DLC）

金刚石薄膜

宝石级钻石

vvs1,~1 carrat, E grade

多种等离子发生器选择：

频率：2.45GHz, 915MHz:

功率：1-2kW, 1-3kW, 3-6kW,1-6kW，5-30kW

等离子团直径：70mm, 145mm, 250mm, 400mm

工作其他范围：0-1000mBar 

其他应用：

MPCVD同样适用于平面基体，或曲面颗粒的其它硬质材料如Al2O3，c-BN的薄膜沉积和晶体合成。德国iplas公司凭借几十年在等离子技术领域的积累，可以为用户提供高度定制的设备，满足用户不同的应用需要。