美国应用材料公司旗下子公司应用薄膜公司2008年生产AKT PECVD等离子增强化学镀膜系统型号AKT 15K SC PECVD。此系统原是德国MALIBU太阳能研究实验室用作微晶硅太阳能薄膜应用研究的一套系统。目前此系统存储在本公司欧洲仓库；系统原来很少被使用，状态如新，属目前世界上微晶硅太阳能PECVD薄膜沉积最先进系统。

系统能处理五代玻璃尺寸（1100mm X 1300mm），除枪膛外，包括两套THOMSON公司型号M-100 Rapidtek构台，一套美国应用材料公司coolREF水冷机，一套日本Dainen RGA-150安培 13.56 MHz射频电源，AKT温度控制器，日本Kashiyawa MV-100真空干泵，AKT 15K SC 等离子增强化学镀膜发生系统，英国BOC爱德华PHMB1800真空系统带手提控制，四套英国BOC爱德华iF1800连网式真空助推系统连泵浦，一套Ecosys Marathon 8500尾气处理系统。此PECVD微晶硅太阳能薄膜沉积系统带有装载预备真空枪(LoadLock),凸面体电极连洒雨式反应头可调节（至500微米精度）和气冷式等离子感受器(Susceptor),专业优化为微晶硅太阳能薄膜沉积优化使用。

     微晶硅沉积设备