京迈研 磁控溅射靶材 高纯二氧化铪靶材 HfO2 镀膜蒸发料
纯度：99.99%
白色粉末，有单斜、四方和立方三种晶体结构。密度分别为10.3，10.1和10.43g/cm3。
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