激光的光掩模防尘薄膜、日本信越激光防尘薄膜
信越化学的pellicle是对应准分子激光的光掩模防尘薄膜。
信越化学，利用在硅片和光掩模基板等半导体相关领业培育出的洁净技术，检查技术，以及在有机硅领业培育出的粘接和成形加工技术，为了最大限度地提高光刻工艺的成品率做出贡献。
光刻胶／防尘薄膜
信越化学将用于半导体回路记录时的感光材料的准分子激光用光刻胶，实现了产品化。同时，也开发成功了与准分子激光对应的光掩模用防尘盖及薄膜。
由此，信越集团供应着半导体装置的光刻制造工序中所必须的主要材料。旋转涂覆于晶片上的光刻胶。
激光的光掩模防尘薄膜、日本信越激光防尘薄膜
信越化学的pellicle是对应准分子激光的光掩模防尘薄膜。
信越化学，利用在硅片和光掩模基板等半导体相关领业培育出的洁净技术，检查技术，以及在有机硅领业培育出的粘接和成形加工技术，为了最大限度地提高光刻工艺的成品率做出贡献。
光刻胶／防尘薄膜
信越化学将用于半导体回路记录时的感光材料的准分子激光用光刻胶，实现了产品化。同时，也开发成功了与准分子激光对应的光掩模用防尘盖及薄膜。
由此，信越集团供应着半导体装置的光刻制造工序中所必须的主要材料。旋转涂覆于晶片上的光刻胶。​
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