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产品原理

磁控溅射电源的阳极、阴极分别连接做基体和靶材上，将一个强烈磁控管装置做靶材后部。当镀膜室被抽成真空状态时，充入一下氩气等惰性气体，镀膜室内的高压将氩原子电离成电子和氩离子，形成等离子异常辉光放电。电离出来的电子在高压电场的作用下，做加速运动，不断与氩原子发生强烈碰撞，这样产生许多二次电子和氩离子。电子经过多次碰撞，电子的动能就会降低，从而脱离了磁力线的束缚，最终落在镀膜室内壁、阳极和集体上。氩原子受到多次氩离子碰撞，得到了大量动能，从而脱离了原来晶格束缚，飞向基片，从而大量的靶材原子积累在基体表面、沉积形成薄膜。组成靶材各种材料都可以成为阴极靶，用来进行溅射镀膜。当靶材的材料不同时，磁控溅射工艺对电源输出特性也不尽相同。

产品参数

输 入  电 压：市电AC380V±10% 

输出功率范围：0~—80kW 

输出电压范围：0~±5000V 

输出电流范围：0~±100A 

脉冲频率范围：0~—50Hz

产品特点

适用于真空磁控溅射，可以根据真空设备与溅射要求设定电流、电压阈值，工作频率、输出极性、工作模式；

本电源能实现交直流切换输出；稳流稳压多种模式切换；

中频、偏压两种编程输出；输出剥削可以设置实现正弦、脉冲方波、三角波、梯形波等多种波形。