PVD真空镀膜简介


 


1. PVD镀膜技术的原理——PVD镀膜（离子镀膜）技术，其具体原理是在真空条件下，采用低电压、大电流


的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被溅射物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用使被


溅射物质及其反应产物沉积在工件上。


 


2．PVD镀膜膜层的特点——采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）很好的耐


腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。