铂离子石墨烯复合材料研磨分散机
IKN研磨分散机设计独特,能够延长易损件的使用时间,因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用,也可以单独使用,且粉碎粒度范围广,成品粒径可以进行调整。
将石墨烯加入渗透剂中通过高速设备进行均匀分散,向混合物种加入铂离子化合物进一步的混合分散,实现铂离子均匀分散于石墨烯上,让石墨烯晶格充分接触铂离子,将充分接触铂离子的混合物料放入反应釜内进行离子渗入反应,将生产的铂离子石墨烯溶液烘干即可得到石墨烯复合铂离子成品。
此工艺步骤最关键的是混合分散的设备,要求必须是高速,若没有较强的机械剪切力,无法将石墨烯团聚物给均匀分散开。
石墨烯的应用已是全世界的关注,然而对于石墨烯的研究,还在起步阶段。石墨烯是非常有特质的二维新型材料,然而这新型材料的应用上主要在材料添加上居多,要发展更深层和带功能性方向的材料才是科技进步的方向,这就要求必须在原料上制造出带功能特性的材料。原有石墨烯制造出来的材料叫N 型石墨烯,意思是说,现在的石墨烯材料作为添加用途的材料是没有带自主特性的、和本身没带离子的石墨烯叫N 型石墨烯,
在石墨烯作产品的应用方面主要是以添加剂为主,但是,石墨烯本身带离子的功能性应用并不多。为了普及使用石墨烯带功能特性方面的应用,镶嵌离子技术就是今后的必然发展方向。
铂离子本身是目前人类应用的贵价金属是最贵之一,而且比黄金更贵,铂是非常昂贵的材料,铂的活跃程度低于银而,化学特性高于黄金,因此在电机电子产品上成为主要应用的三大类的贵金属之一。
铂离子在工业生产中主要应用在催化器材的生产上。由于价格昂贵,往往器材成本高昂,投资成本和规模都很大。
研磨分散是一种新德方法,采用国外进口,对于混合粉末制备工艺非常之好。通过研磨刀头的定转子剪切力可以破坏石墨纳米片之间的范德华力,研磨刀头下还有一层超细分散组合,在高速旋转下促进了石墨烯在铝粉中的均匀分散。然而相对其他设备所消耗的时间要少很多,研磨时间过长可能导致石墨烯结构被破坏,影响石墨烯的使用效果。
上海依肯的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。简单的说就是将IKN/依肯胶体磨进行进一步的改良,将单一的胶体磨磨头模块,改良成两级模块,加入了一级分散盘。可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择) IKN研磨分散机可以高速研磨,分散,乳化,均质等功能,设备转速可达14000rpm,是目前普通设备转速的4-5倍。
从设备角度来分析,影响分散效果因素有以下几点:
1.研磨头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次式要好)
2.研磨头的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齿形结构(分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好)
4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间(可以看作同等电机,流量越小效果越好)
5.循环次数(越多效果越好,到设备的期限就不能再好了。)
线速度的计算:
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知,剪切速率取决于以下因素:
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(转子直径)X 转速 RPM / 60
所以转速和分散头结构是影响分散的一个重要因素,研磨分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是重要的
CMD2000系列研磨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%