石墨烯改性硅基负极材料研磨分散机,新型负极材料研磨分散机,硅碳负极材料研磨分散机,超高速纳米研磨分散机,硅基材料复合碳纳米管研磨分散机
IKN研磨分散机设计独特,能够延长易损件的使用时间,因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用,也可以单独使用,且粉碎粒度范围广,成品粒径可以进行调整。
已经广泛商业化的石墨负极材料。这类材料的特点是,在充放电过程中,锂离子从材料主体脱出和嵌入,而材料基本结构不发生改变。因此,这类材料大多循环性能优异。在新型碳负极方面,未来的发展将主要集中在高功率石墨类负极及非石墨类高容量碳负极,以满足未来动力和高能电池的需求。新型碳材料:如碳纳米管(CNT)石墨烯
理论上,硅与Li的插入化合物放电比容量可达到4200mA?h/g,作为锂离子电池负极材料非常有吸引力。然而硅在充放电过程中存在较大的体积变化,从而导致材料的容量衰减较快,电池的循环性能很差。所以需要对Si进行改性,提高硅基负极材料的电化学性能,主要的改进方法一般采用表面处理、多相掺杂、形成硅化物等在硅基材料中,未来x有潜力的是硅基薄膜负极和硅的复合材料,薄膜的厚度和材料的制备方法对硅基薄膜负极的容量有着较大影响。只要增加薄膜的厚度就可提供足够的活性材料,
如何把纳米材料和微米材料均相分散是客户需要解决的问题
如何 普通的分散机难以解决这个问题,需要行新工艺 新设备
硅碳复合材料难点在于:1、 颗粒细化,粒径分布范围集中 2、分散稳定
石墨烯改性硅基负极材料研磨分散机 新设备特点:
1、由于石墨烯的特性,石墨烯分散到液体介质当中,容易形成团聚。上海依肯研磨式分散机可以很好的解决这一问题,“胶体磨+分散机”的独特结构,第1级研磨模块可以将团聚体研磨打开,第二级分散模块再瞬间对物料进行充分的分散,一步到位,效果好,效率高。
2、石墨烯是超细粉体,所以需要强大的作用对其进行分散,传统分散设备转速一般不足3000rpm,难以分散。而IKN研磨分散机转速高达21000rpm,剪切速率高,可以充分的将石墨烯分散到液体介质当中。
3、IKN研磨分散机采用管线式分体式结构,物料从进口进入设备工作腔中,进行处理,然后再从出口打出,物料可以得到充分剪切细化分散,产品更均匀稳定。另外可以实现在线式生产,满足大工业化生要求。
从设备角度来分析,影响研磨分散机效果因素有以下几点:
1.研磨头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次式要好)
2.研磨头的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齿形结构(分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好)
4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间(可以看作同等电机,流量越小效果越好)
5.循环次数(越多效果越好,到设备的期限就不能再好了。)
线速度的计算:
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知,剪切速率取决于以下因素:
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(转子直径)X 转速 RPM / 60
所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素,超高速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的
CMD2000系列研磨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%