1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.​​

KRI 霍尔 eH 200
上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔 eH200 是霍尔型 eH 系列中尺寸最小, 低成本设计离子源. 霍尔 eH200 适用于小型真空腔内, 例如研发分析, 薄膜沉积和离子清洗. 霍尔 eH200 操作简单是理想的生产工具.

KRI 霍尔 eH 200 技术参数：

* 可选: 可调角度的支架; Filamentless; Sidewinder

KRI 霍尔 eH 200 应用领域：
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
直接沉积 DD

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