产品介绍：通常所指蚀刻也称光化学蚀刻（photochemical etching），指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护摸去处，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。

产品参数：

适应工件：2~8寸晶圆片清洗

批量产能：8寸25PCS/批

工艺流程：Cu蚀铜→-QDR→QDR←QDR-Ti刻蚀

工艺槽功能：循环过滤+加热冷却+上下抖动+花篮提升

主要材料：金属骨架+PVC/PPW壳板，槽体采用PPN/PVDF材质

运送方式：手动传送

节拍时间：5-15min可调

我们的售后：

一年质保