HVS-200型真空回流炉是利用真空加热的原理,为电子元器件的合金焊料焊接提供工艺环境的设备。在该设备上,可以完成LED 芯片焊接、MEMS 器件封装、LD 器件焊接、电力电子器件封装、IGBT 芯片焊接、管壳封盖等工作。
设备技术指标
序号 | 技术指标名称 | 技术指标参数 |
1 | 可焊焊料熔点 | ≤450℃ |
2 | 控温精度: | ≤±1℃ |
3 | 加热板面积 | (350×290) mm2 |
4 | 有效面积内热均匀性 | ≤±2% |
5 | 极限真空度 | ≤5Pa |
6 | 工作真空度 | 10-15Pa |
7 | 最大升温速度 | ≥2℃/S |
8 | 最大降温速度 | ≥1.5℃/S |
9 | 可放器件最大高度 | 100mm |
10 | 可编程数量 | ≥150组 |
设备功能
☆ 采用工业控制计算机控制,中文操作界面;
☆ 加热方式:红外辐射加热;
☆ 加热载体:高导热硬质合金板;
☆ 冷却方式:氮气冷却;
☆ 炉盖锁紧方式:气动自动锁紧,未锁紧报警;
☆ 工作模式:自动手动两种工作模式;
☆ 用户可自行设定工艺曲线且对所设定工艺曲线实时监控;
☆ 自动运行工艺曲线记录存储功能;
☆ 水冷保护功能(炉盖及观察窗密封圈、降温板),冷却水由设备自带冷却水循环系统提供;
☆ 控制软件具有防差错互锁,超温报警功能;
☆ 配置甲酸模块,可以使用甲酸工艺气体。真空机充气系统为耐腐蚀规格。
☆ 可对抽真空、加热、充惰性气体、甲酸、充气流量等功能进行设置及控制。