活性炭吸附塔系利用高性能活性炭吸附固体本身表面作用理，将voc分子吸引附着在吸附剂表面，以达到祛除voc物质的目的。
活性炭吸附塔在低浓度voc条件下，可以理想地祛除废气中挥发性有机物，同时有较佳的经济效益。故在空气污染物控制方便，特别是用处理含低浓度voc废气，例如半导体厂、lcd厂、pcb厂与相关电子厂等。
依照吸附剂与吸附物质间吸引力的不同，吸附塔的机制包括有藉由物质间凡得瓦尔力作用之物理吸附及利用产生化学键结合之化学作用。其中物理作用为一可逆现象，常被用来改变压力或温度破坏此平衡，以再生吸附剂并挥手吸附物质，例如蒸汽再生，化学氧化再生，微波再生；化学作用为高放热反应且通常为不可逆反应。活性炭吸附塔系利用高性能活性炭吸附固体本身表面作用理，将voc分子吸引附着在吸附剂表面，以达到祛除voc物质的目的。
活性炭吸附塔在低浓度voc条件下，可以理想地祛除废气中挥发性有机物，同时有较佳的经济效益。故在空气污染物控制方便，特别是用处理含低浓度voc废气，例如半导体厂、lcd厂、pcb厂与相关电子厂等。
依照吸附剂与吸附物质间吸引力的不同，吸附塔的机制包括有藉由物质间凡得瓦尔力作用之物理吸附及利用产生化学键结合之化学作用。其中物理作用为一可逆现象，常被用来改变压力或温度破坏此平衡，以再生吸附剂并挥手吸附物质，例如蒸汽再生，化学氧化再生，微波再生；化学作用为高放热反应且通常为不可逆反应。活性炭吸附塔系利用高性能活性炭吸附固体本身表面作用理，将voc分子吸引附着在吸附剂表面，以达到祛除voc物质的目的。
活性炭吸附塔在低浓度voc条件下，可以理想地祛除废气中挥发性有机物，同时有较佳的经济效益。故在空气污染物控制方便，特别是用处理含低浓度voc废气，例如半导体厂、lcd厂、pcb厂与相关电子厂等。
依照吸附剂与吸附物质间吸引力的不同，吸附塔的机制包括有藉由物质间凡得瓦尔力作用之物理吸附及利用产生化学键结合之化学作用。其中物理作用为一可逆现象，常被用来改变压力或温度破坏此平衡，以再生吸附剂并挥手吸附物质，例如蒸汽再生，化学氧化再生，微波再生；化学作用为高放热反应且通常为不可逆反应。​​