品名

MA6紫外光刻机

型号

MA6 (SN201208226)  

制造商

所属单位

苏州纳米技术与纳米仿生研究所（光刻 加工平台）

主要功能

宽带光源，紫外接近，接触式光刻，可实现双面对准。大曝光面积?φ150mm。分辨率：2μm。套刻精度：±1μm。 ++++++++注意：12：00前预约2、3、4、6整片工艺，12：00预约2寸或者小片工艺（片子大于10mm*10mm）+++++++++ 光刻预约必须预约者本人到场做工艺，不可他人替代。 委托加工起约 1小时