等离子去胶机清洗机适用于半导体IC领域。硅胶 塑胶聚合体领域。电子行业。印制线路板行业。表面清洁 表面活化 表面灰化 去胶 还原 刻蚀 去除表面有机物
承担:德国。 出厂年份2013年
腔室大小:30L;最多可放置4层配置工业电脑。
2. 路气体
最大射频功率600W.配备自动匹配器。AE射频源加匹配器真空泵
去胶(光刻胶)速率:110nm\去胶均匀性<4%
600W RFG 去胶速率230nm
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