产品名称：高深宽比紫外光刻机（曝光机）

产品型号：Cchip-0019

高深宽比紫外光刻机简介：

微流控芯片的设计结构一般深宽比较大，针对微流控芯片这一特点，中芯启恒自主研发生产了Cchip-0019适用于高深宽比工艺的光刻机。该设备采用LED光源，紫外波长365nm，光源纯度高，辐射能量均一可调。设备配有智能化触摸屏操作面板，外观比较传统光刻机体积更小，集成化度更高，不仅简化了操作流程，还进一步提高了工艺效率。

不仅如此，我们还对曝光系统进行了优化，将曝光过程中较大衍射误差降到极限，保证图案设计值与实际值一致，从而为芯片制作保驾护航。

以下是客户实测图片，结构高度92um，间距20um，请参考！

中芯启恒提供一站式微流控解决方案：

（1）PDMS/玻璃/PMMA等各种材质微流控芯片加工设备、耗材、试剂、配件等服务。

（2）提供微流控芯片光刻实验室、微流控芯片软注塑实验室、微流控芯片封合实验室、微流控实验系统平台组建服务。

（3）公司提供微流控芯片加工技术培训和微流控芯片使用技术培训。