一、电子芯片清洗用超纯水设备
电子芯片清洗用超纯水设备-50T/H的超纯水设备产水量是每小时50吨，出水水质满足工业清洗行业用水要求。电子芯片清洗用**纯水设备主要由超滤设备、反渗透设备、离子交换设备、EDI装置等组合而成。
二、电子芯片清洗用超纯水设备
1、工艺的设计细微周到，元件的材质、性能、设计的流量、流速、压力等均符合的标准规范及国外材料商的规定要求。
2、制水过程高度自动化，自动进水，自动制水，纯水箱满水自动停机，用水后自动恢复，可完全实现**的运行。
3、可选用可编程控制(PLC)，计算机触摸屏控制，远程数据***及监控等**技术，使产品较具现代化特色。
三、电子芯片清洗用超纯水设备
1、采用两级反渗透方式，其流程如下：
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→**级反渗透→PH调节→中间水箱→*二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点。
2、采用EDI方式，其流程如下：
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点。
3、采用离子交换方式，其流程如下：
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点。
四、电子芯片清洗用超纯水设备的技术指标
(1) 脱盐率大于99.9%，效率远远**两级反渗透和单纯的离子交换。
(2) 较传统的离子交换法脱盐节约树脂95%以上。
(3) 离子交换树脂不需使用酸碱再生，节约大量酸碱和清洗用水，降低劳动强度。
(4) 清洁生产，无废水处理问题，利于环保。
