刻蚀机是一种用于电子与通信技术领域的工艺试验仪器，‌产地为英国，‌于2012年5月14日启用。‌它主要用于半导体集成电路工艺实验设备，‌涉及电子与通信技术领域的材料刻蚀处理。‌刻蚀机利用干法刻蚀技术，‌特别是等离子蚀刻技术，‌通过在低气压环境下，‌利用反应气体在射频电场作用下产生等离子体，‌实现离子的物理轰击溅射和活性粒子的化学反应，‌从而完成高精度的图形刻蚀。‌这种技术具有各向异性好、‌选择比高、‌大面积刻蚀均匀性好等优势，‌适用于氧化硅、‌氮化硅等介质材料及聚合物材料（‌如PI、‌PDMS）‌的微纳米结构刻蚀。‌刻蚀机在芯片生产过程中扮演着重要角色，‌与光刻机相辅相成，‌光刻机通过激光刻出导电部分，‌而刻蚀机则去除不导电的部位，‌共同完成集成电路的制作