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单晶圆涂层。
只需少量样品即可在短时间内实现均匀涂覆
单晶片涂覆方法可以使用少量样品(涂料)在短时间内均匀涂覆。涂布时可任意调节间隔时间、涂布速度、停留时间、热风干燥风向、风速等。
它也是一款单晶圆镀膜机,可以进行传统上采用的手工镀膜。
■ 主要规格
模型 | PM-9041MC |
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烘干房尺寸 | 400(宽)×640(深)×200(高)毫米 |
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烘干房尺寸 | 350(宽)x 620(深)x 75(高)毫米 |
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有效样品宽度 | A3 297(宽)x 420(深)毫米 |
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涂布速度 | 1~60m/分钟 |
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干燥时间 | 10~300秒 |
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热风机 | AC200V 3φ 300W 鼓风机 1.2m3/min 800mmAq |
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涂布驱动装置 | 晶体管逆变器控制 |
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输送驱动装置 | 晶体管逆变器控制 |
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电容 | 6.6千瓦 |
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电源 | AC200V 3φ 50/60Hz 30A |
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外形尺寸 | 780(宽)× 2,250(深)× 1,300(高)毫米 |
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CCS晰写速 SEN日森、EYE岩崎、REVOX莱宝克斯、SERIC索莱克
SONIC索尼克、SANKO三高、NEWKON新光、HAYASHI 林时计、NPM日脉
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