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维意真空W-EVT3高真空热蒸发镀膜手套箱一体机,超高真空
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486000
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北京维意真空技术应用有限责任公司
中国 北京
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品牌
维意真空
型号
W-EVST
原理类型
真空化学气相沉积镀膜机
应用领域
光学薄膜
极限真空度类型
中真空0.1~100Pa
极限真空度
0.1Pa
镀膜室尺寸
150mm
工作真空度
1Pa
升压率
2Pa/h
抽气时间
5min
靶材利用率
58%
基材尺寸
6英寸
可镀基材
硅片
卷绕速度
5m/min
真空室材质
316不锈钢
真空获得系统
机械泵
工件运动方式
自动
系统控制
PLC
最高加热温度
150℃
热区加热均匀度
3±℃
冷却方式
自然冷却
流量
0.003L/min
蒸发功率
1.5kW
整机总功率
2kW
适用领域
真空镀膜
加工定制
加工定制
外观尺寸
650*650*750mm
重量
100kg
管道温度
200
样品台直径
6英寸
源瓶最高温度
300
样品台温度
200
SEV-400手套箱金属有机蒸发镀膜机
真空腔室:采用立式方形结构,前门为水平滑开式,位于手套箱体内部,前开门便于蒸发材料和样片在保护环境下装卸,后开门便于真空室的清理维护(后门带锁紧装置在充气条件下保持腔室密闭与大气环境隔离),整机位于手套箱体下面,节约占地面积;
真空系统:国产分子泵作为主抽泵,真空极限高达2.0✕10-5Pa,另可选进口磁悬浮分子泵或是低温泵作为主抽泵,真空极限高达3.0✕10-6Pa;
真空抽速:大气~5✕10-4Pa≤30min(手套箱环境中);
基片台:120mm基片/15~25mmITO/FTO玻璃25片,可定制一体化刻蚀掩膜板,基片台公转,转速0~20r/min可调,衬底可选择加热(室温~300℃可调可控)或水冷,基片台可选升降,源基距350mm;
蒸发源及电源:4~6组欧美技术金属或有机束源炉蒸发源可选,多元共蒸获得复合膜/分蒸获得多层膜,功能强大,性能稳定;真空专业蒸发电源,恒流/恒功率控制,电流、功率可以预先设置,可实现一键启动和停止的自动控制功能;
膜厚监控仪:采用国产或进口膜厚监控仪在线监测和控制蒸发速率、膜厚;
控制方式:PLC+触摸屏控制系统,具备漏气自检与提示、通讯故障,实现一键抽停真空。
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