高洁净环境预抽真空半导体行业无油式节能环保真空泵供应商

普旭（Busch）单级无油式真空泵在半导体行业 中具有重要应用价值，尤其适用于对洁净度、无油污染和稳定真空环境要求严苛的工艺环节。与油式泵相比，无油设计彻底消除了油蒸汽返流污染的风险，符合半导体制造的高标准需求

核心应用场景
1.洁净环境预抽真空
用于半导体设备（如离子注入机、PVD/CVD腔体）的 预抽真空阶段，快速将腔体压力从大气压降至中真空范围（1~10 mbar），为后续分子泵或干式泵接力创造基础条件。
避免油式泵的油污染风险，确保工艺腔体洁净。
2.晶圆传输与吸附
在晶圆搬运机械臂或真空吸盘中，通过无油真空泵实现 无接触吸附固定，防止微粒或油渍污染晶圆表面。

适用于高洁净度要求的先进制程（如7nm以下节点）。

3.工艺气体处理与回收
抽除刻蚀、沉积工艺中的 非腐蚀性废气（如氮气、氩气），搭配气体过滤系统实现无害化处理。
无油设计避免真空泵与工艺气体反应，延长设备寿命。
4. 真空干燥与封装
用于芯片封装环节的真空干燥工艺（如去除环氧树脂中的气泡），确保封装材料均匀固化。
在3D封装、MEMS器件制造中，提供稳定的低真空环境。

普旭单级无油式真空泵的优势
1. 零油污染
- 采用干式运行技术（如爪式、涡旋式或螺杆式设计），无需润滑油，彻底杜绝油蒸汽反流污染，符合 ISO 1级洁净室 要求。
2. 高可靠性
- 结构紧凑，磨损部件少，适合 7×24小时连续运行，故障率低，维护周期长。
3. 宽泛的真空范围
- 单级无油泵的极限真空可达 0.1~5 mbar，满足半导体中低真空环节需求（如预抽、干燥、传输）。
4. 低能耗与低噪音
- 优化设计降低能耗（相比油式泵节能10%~20%），运行噪音通常低于65 dB，适合洁净室环境。
5. 兼容腐蚀性气体

- 部分型号采用耐腐蚀涂层（如特氟龙、陶瓷），可处理 轻度腐蚀性气体（需根据工艺定制）。

典型配置与型号

1. 预抽真空系统
- 推荐型号：Busch Cobra NC 系列（爪式无油泵）。
- 抽速范围：5~60 m³/h，极限真空0.1 mbar。
- 应用：光刻机、镀膜设备腔体的快速预抽。
2. 晶圆处理与传输
- 推荐型号：Busch Seco SV 系列（螺杆式无油泵）。
- 抽速：10~100 m³/h，极限真空1 mbar。
- 特点：紧凑静音，适配自动化晶圆搬运系统。
3. 工艺废气处理
- 推荐型号：Busch Mink 无油爪式泵（耐腐蚀型）。
- 抽速：20~80 m³/h，极限真空2 mbar。
- 适配腐蚀性气体过滤系统，用于刻蚀废气回收。

与油式泵及干式泵的对比

维度	普旭单级无油泵	油式真空泵	干式泵（如螺杆泵）
洁净度	无油污染，适合洁净室	需严格过滤，仍有污染风险	无油，洁净度极高
真空度	0.1~5 mbar	1~5 mbar	0.01~0.1 mbar（双级更高）
维护成本	低（无需换油）	中（定期换油、滤芯）	较高（精密部件维护）
适用工艺	预抽、传输、干燥等中低真空环节	非洁净区辅助设备	核心工艺（刻蚀、沉积
初期投资	中高	低	高

注意事项与优化方案

1. 气体兼容性检查
- 若工艺涉及腐蚀性气体（如Cl₂、HF），需选择特殊涂层或材质（如镍基合金）的无油泵，并加装 化学过滤器。
2. 热管理
- 长时间运行可能导致泵体升温，需确保散热系统（如风冷/水冷）适配洁净室环境。
3. 振动控制
- 安装减震底座或软连接管道，避免振动传递至精密设备（如光刻机）。
4. 系统集成
- 搭配真空传感器和PLC控制系统，实现真空度实时调控，提升工艺稳定性。

行业应用案例
光刻机预抽系统：Cobra NC系列无油泵用于ASML光刻机腔体预抽，5分钟内将压力降至5 mbar，接力分子泵进入超高真空。
3D NAND封装：Seco SV系列泵在真空干燥环节去除多层堆叠结构的间隙气体，提高良率。
化合物半导体制造：耐腐蚀无油泵处理GaN刻蚀废气，避免油污染导致的晶体缺陷。

普旭单级无油式真空泵凭借其 零污染、高可靠性和低维护成本，成为半导体行业预抽、传输及干燥环节的理想选择。尽管其极限真空度不及分子泵，但通过与其他高真空泵的协同工作，能够显著提升系统效率并降低污染风险。在先进制程和洁净室环境中，无油泵正逐步替代传统油式泵，成为半导体设备升级的关键组件。对于更高真空需求的核心工艺（如离子注入），仍需搭配涡轮分子泵或干式螺杆泵完成。东莞市飞粤真空科技有限公司