透明导电铟锡氧化物靶材通过金属氧化物粉末，采用电子束、离子镀、溅射等物理真空沉积技术，根据沉积方式形成片状、平面、旋转结构高纯度的靶材，这样的靶材具有宽泛密度范围，可作为透明导电膜材料。