产品概述：
这是一款精密实用型材料喷射沉积与分析系统，适用于多种喷头，包括美国富士 Dimatix、日本柯尼卡Konica、英国赛尔Xaar、日本精工Seiko等，可实现将多种介质材料精确喷射至承印物上形成任意图案，同时还可以辅助分析介质材料的喷射性能。
其中介质材料可以是多种功能型墨水，如纳米银导电墨水、UV墨水、颜料墨等，也可以是高分子材料以及生物材料，广泛应用于高校实验室研究所、企业研发机构等。
技术参数：
X、Y轴 | 重复精度：±2.5 μm；最高速度：500mm/s |
Z轴 | 重复精度：±10μm |
载物台 | 自动旋转范围：±5°；重复精度：0.01° |
喷头 | 旋转范围：±0-30°；最高加热温度：60°C（可选配其他功能） |
基板 | 尺寸：220mm×220mm；厚度：最高30mm |
真空压板 | 加热温度：最高50°C |
打印墨水 | 粘度范围：0-20CPS |
基板相机 | 基板定位和结果测量分析 |
喷孔校正相机 | 喷孔检查和喷头校正分析（选配） |
墨滴观测相机 | 记录墨滴形成、体积、速度等，进行测量分析 |
压电控制波形 | 可编辑，能实时观测墨滴受波形的影响，进行精准调整，确保打印效果 |
控制软件 | 可实现图片、文档导入和编辑软件功能 |
打印分辨率 | 最高5080DPI |
打印频率 | 最大可达80KHz |
设备尺寸（长宽高） | 1000mm×800mm×650mm |
电气要求 | 电源：AC220V 50 Hz；额定功率：P =2.2 KW |
使用环境 | 温度：10℃～40℃；湿度：20%～80% RH（无冷凝）；海拔：0～2000米 |
喷头 | 标配：Samba卡夹、QS256； 可选：美国富士DimatixDMC、日本柯尼卡Konica、英国赛尔Xaar 和日本理光Ricoh等 |
产品特点：
（1）打印精度高：X、Y轴：重复精度±2.5 μm；打印分辨率：最高5080DPI。
（2）材料兼容性强：支持水性、溶剂型、UV固化、高温油墨等多种工业级墨水。
（3）自动化程度高：墨滴分析：记录下落速度和体积。
（4）行业应用广：支持各种打印基材，支持曲面、异形件定制化打印。
应用实例：
适用于纳米材料沉积、电子设备制备、电子传感器、电路图绘制、生物芯片、DNA合成等多种领域的生产及科研用途。
