液氨加热至800～850℃，在镍基催化剂作用下，将氨进行分解，可以得到含75%H2、25%N2的氢氮混合气体:

本装置工艺流程，有液氨瓶送来的氨经过进氨阀F1，F2进入汽化器（1），汽化器内装有电加热元件，电加热元件对汽化器内的水加热，一般水温控制在45-60℃，液氨在汽化器内得到温水传过来的热量。汽化成气态氨，一般汽化后的氨压力控制在0.4-0.5MPa，氨气经减压阀减压后，压力调到0.05 MPa左右。经过降压后的氨气由耐腐流量计量，从流量计流出的氨气在热交换器中进行热量交换，使氨气温度升高，由分解炉出来的高温混合气被降温，经升温后的氨气进入分解炉进行分解成氢氮混合气，高温混合气进入热交换器，水冷却器降温，然后送到使用地点。

复式流程，用两只吸附干燥器并联，一只工作，同时另一只可以进行再生处理。相互交替工作和再生，以保证设备连续运行。干燥器在常温下工作，在加温至350℃下冲气再生。再生废气经阀F17后，通过气水分离器放空。

氢气纯化装置

以工业普氢为原料，通过催化除氧，冷凝和吸附两级干燥，以及过滤除尘，可以除去氢中杂质氧，水汽和尘埃颗粒等，获得高纯氢气。

原氢接如原气阀，原氢流量计，除氧器，进行催化除氧。再经冷却器冷凝降温，用冷凝水使气体降温，进入汽水分离器，分离水分。

此时气体可以分别经阀门，进入1组吸附器或2组吸附器吸附干燥，然后经阀门，再经过滤器，由纯氢出口送使用地点。

该复式流程，在一只吸附器工作的同时，另一只吸附器可以进行再生处理，再生用气取部分干燥纯氢，通过再生流量计，阀门送1组吸附器或2组吸附器，加热再生吸附剂，再生废气经阀门进入汽水分离器放空，水分经阀门排出。

氢气在电子工业中主要用于半导体、电真空材料、硅晶片、光导纤维生产等领域。在电子工业中，氢和氧作为热处理气氛气和过程气而广泛使用。这些气体的纯度对产品的好坏影响很大，需要高纯氢和氧。一般情况下，氢气是通过一次纯化食盐电解或石油化工精制副产气，然后高压充入钢瓶等而供给的。氧气是在液化空气状态下，经深冷分离后供给的，在用户工厂经汽化后使用。由于这些生产方法所生产的氢和氧气中的氮、二氧化碳、一氧化碳、碳氢化合物等杂质不能完全除掉，在半导体等工厂中，还设置几十立方米/小时的终端纯化装置，进行2次终端纯化后才能使用。