晶体分析仪能够提供稳定的X射线光源,用来研究物质内部的微观结构.该仪器的特点是利用可控硅和集成电路自动控制系统进行调流调压,从而获得一个强而稳定的射线光源.该机射线发生器功率大,整机稳定性高,操作简单,分析速度快,可靠性强,防护完善,可与各种射线照相机一起构成X射线晶体分析仪,或用于其他用途的X射线光源.
X射线晶体分析仪广泛用于冶金,机械,电子,化工,地质,建材,环保,能源,食品等科研,工矿企业和大专院校.
1.使用条件 |
环境温度 | 10℃-35℃ |
相对湿度 | 不大于80% |
电源 | 单向交流220V,频率50Hz,电源电压波动范围不超过 额定电压的10%,电源容量不低 于8kVA. |
接地 | 接地电阻不大于4Ω. |
冷却 | 水流量为3.5升/分钟以上,进水温度不高于30℃,不 低于露点.水质应达到饮用水质 量.连续工作时间:不大于8小时. |
2.技术参数 |
额定功率 | 3 |
额定管电压 | 0~60kV→0~50kV(10kV~60kV→10~50kV) |
额定管电流 | 50mA(2mA-50mA分档可调) |
射线管 | 最大输出功率2kW,铜靶 |
保护装置 | 过kV,过mA,过电流,无水,无压保护 |
3.组成 |
JF-2型射线晶体分析仪由射线发生器,管套,高压电缆,射线管组成.射线发生器由高压变压器,控制匣组装,底板组装,台体等组成. |