设备说明:JIL-1000型真空镀膜机是立式单开门非平衡磁控反应溅射镀膜机。此设备所沉积的膜层在致密度、均匀度、纯度、硬度等方面均有提高。广泛应用于手表、眼镜、通讯、电子、机械、装饰和交通航空等领域的高档装饰和功能性薄膜。 设备特点
本真空镀膜机镀膜室、阀门、管道均采用不锈钢制造,立式、单开门结构;
1、沉积速率快,温升小,能较好抑制打火及靶中毒现象;
2、溅射释放的高能量使膜层密度和附着力有显著提高;
3、触摸屏 PLC,可实现全自动控制,自动/手动随时切换;
4、镀膜室容积大,装载量大,生产效率高。
5、工件架采用公转结构,可设置自动正反转,产品均匀性好。
6、整机配置合理,抽气速率快,噪声小,耗能低。
7、可根据客户要求配多套靶源
主要技术参数:
●极限真空
5.0 X 10-4Pa
●抽气时间
2 X 10-2Pa≤8min(空载)
●镀制硬膜、黑膜 (膜厚1μm)制程时间大约60分钟左右每炉。
●工件转速1-15r/min连续可调。
●沉积速率
Ti≥500nm/min
●功
率
总功率约80KW
●耗 水 量
35m3/h
●设备毛重3500Kg,设备尺寸约5 X 6 X2.3m
设备配置:镀膜室 真空室结构不锈钢制造,立式,单开门真空室规格Φ1000 X 1000mm工件架Φ800 X 850 mm抽气系统(普通配置)机械泵2X-70,罗茨真空泵ZJ-300,油扩散泵KC-500,维持泵2X-8充气系统多路质量流量控制仪供气,配备有SMC隔断阀、流量计显示仪溅射电源中频溅射电源可配多套脉冲偏压电源1套电控触摸屏 PLC,自主设计控制方式镀膜工艺可存储、更换