该刻膜机采用YAG灯泵激光器，可灵活调制激光波长至1064与532，适合于对导电玻璃与镀层进行精细刻线。同时日本进口伺服电机、斗式工作台设计，加配气缸固定加紧装置，能有效的解决玻璃运行中的平稳性。主要用于非晶硅薄膜太阳电池的透明导电膜（SnO2、AZO、ITO）、非晶硅膜系（a-Si、μc-Si）、背电极膜（ZnO、Al）等的激光刻膜（刻线、切割），其它薄膜电池的膜层刻膜（金属钼Mo薄膜、金属镍Ni薄膜、碲化镉CdTe薄膜等）
产品特点:半导体端面泵浦光纤耦合全固态激光器；膜面朝上非接触式工作台；直线电机驱动；四路同步输出；自动识别跟踪定位；自动进出料；在线监测；静态显示
技术参数:
型号规格：SEF-G5
有效加工幅面：1.1m×1.4m（或635mm×1245mm ）
最大运行速度：2000mm/s
重复定位精度：±10μm
刻线直线度：±10μm / 1000 mm
典型刻膜线宽：30～60μm
三线外沿总宽度：300～500μm
选项和配件：
高标配，可根据需要移除不需要的部件。
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