高纯氩气主要用途：用于焊接、不锈钢制造、冶炼，还用于半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气，为了提高硅晶体的质量，如何选用较高纯度的氩气，是制作硅晶体的一个议题。通过本装置对氩气的使用，氩气的纯度其中氧含量小于1ppm时，水分也小于1ppm时，制作出的单晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm，这样就提高了单晶的使用寿命并能达到要求，赢得客户的满意和市场的需求。由于一般液氩汽化后未经过纯化处理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有时气体供应商提供的氩气超过了此范围，但使用氩气的客户确不知道其质量，所以往往给生产产品质量造成影响。有了氩气纯化装置后不论氩原料气的质量如何，只要经过纯化装置的处理后，进入拉晶炉的氩气，纯度始终是恒定的。一般 O2＜0.2ppm,水分＜1ppm，这样稳定的氩气对生产晶体质量是有保证的。
氩气纯化装置是针对需要使用超高纯度氩气的客户而设计的。广泛应用于在金属保护行业、电子、电光源、科研、气体、分析、医学等领域以及光谱仪、气相色谱仪、科学仪器等等已知或未知的宽广领域
装置特点：
1. 催化剂采用了最先进环保的催化材料。具有吸附深度高，吸收杂质气量大的特点，经催化吸附干燥过滤后使其最终纯度达99.9999%以上。100级的气体出口过滤器使其最终纯气颗粒小于0.1μ，确保气体满足高纯气要求，原位再生功能保证了气体的品质如一，达到了环保节能的最终目的
2. 本装置所有阀门，容器，管路全系不锈钢制作，均采用国内外专业制造企业的名优产品，直接保证了设备工作过程中的高真空无渗透及无故障运行安全可靠性。
3. 精致的控制仪表，电路电器选自高端跨国公司，如西门子，施耐德等。
4. 设备所有连接接头均选自知名企业先进的VCR接头,杜绝渗漏，安全快捷。
5. 人性化的外观设计,使设备外形精巧更美观，操作更方便
6. 进出口微氧分析仪在线监测，直观显示原料气体氧含量及纯化后的氧气含量。
7. 纯气最终过滤系统一用一备，更具人性化，彻底解决无故障运行顾虑。
8. 加氢还原系统采用质量流量计控制，真正做到定时定量全自动运行。
9. 一键式启动设备，工作状态实时显示，操作简单、安全、明了。
10.严格的质量控制，在制作过程中，邀请需方作全过程跟踪督察。
技术保障措施；
1 组合式纯化工艺，分级处理。
2 净化器采用特殊结构和装料方法，流速设计合理，气流分布均匀。
3 净化炉采用特殊设计的加热构造，加热均匀、稳定。
4 采用优质管件，阀门，避免管道和阀门影响气体质量。
5 采用优质的电器元件和控制仪表，保证温度稳定，减少温度和影响。
6 净化器的活化程序，严格按照活化程序执行，根据现场实际情况适当调整。
7 对用户的操作员进行设备操作培训，了解设备工作原理，掌握设备操作方法，熟悉设备的开车、停车、停电、停水处理方法。
8 对用户设备建立档案，及时提醒用户对设备进行例行检查和维护。是设备处在最佳工作状态。
一 、设备工作原理
设备工作设有两组工作组，填装的净化材料属于可再生重复利用材料。原料液氩经汽化器汽化后由设备工作进口进入设备一组工作组，经脱氧剂、分子筛及精密高效过滤器后送出至工作点使用。一组工作组负荷饱和后，切换到另一组工作组工作，保证为使用点连续的提供高纯氩气。同时一组工作组开始再生加热加氢反吹洗（本系统加氢是为了还原脱氧剂，加氢结束后设备自动吹洗并直接放空），为等待下一次切换使用做好准备。装置工作为常温工作，脱氧程度深、碳水含量低，均可达到并高于GB高纯氩气标准。
二、主要技术条件
1、 处理气量 ≥2-320Nm3/h
2、工作压力 ＜0.8Mpa
3、原料氩气纯度 ≥99.99%
4、纯化后 O2 ≤0.2ppm
CO+CO2＜0.3ppm CH4＜0.2 ppm H2O≤1ppm
