高纯氩气主要用途：用于焊接、不锈钢制造、冶炼，还用于半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等
氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气，为了提高硅晶体的质量，如何选用较高纯度的氩气，是制作硅晶体的一个议题。通过对本装置的使用，氩气的纯度其中氧含量小于1ppm时，水分也小于1ppm时，制作出的单晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm，这样就提高了单晶的使用寿命并能达到要求，赢得客户的满意和市场的需求。
单明了。装置工作设有两组工作组，交替工作，循环使用。其中一组工作，另一组再生冷却备用。工作组工作无需加热，为常温工作。对应面板触摸屏可查看设备组成硬件、操作简介、观察、监视工作组工作状态、再生组再生状态、工作组工作时间、切换时间、设备总工作时间、再生加氢及加热时间和报警信息状态。
全自动氩气纯化装置特点：
1. 设备外形色彩喷漆为乳黄色，采用烤漆形式，美观耐用，填装净化材料容器内壁做表面处理。
2. 选材优良，氩气流经阀门，管道选用316材质,彻底解决气源重复污染，纯气出口管路采用BA级，保证纯气的洁净如一。
3. 严格的质量控制，在制作过程中，邀请需方作全过程跟踪督察。
4. 进出口微氧分析仪在线监测，直观显示原料气体氧含量及纯化后的氧气含量。
5. 纯气最终过滤系统一用一备，更具人性化，彻底解决无故障运行顾虑。
由于一般液氩汽化后未经过纯化处理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有时气体供应商提供的氩气超过了此范围，但使用氩气的客户确不知道其质量，所以往往给生产产品质量造成影响。有了氩气纯化装置后不论氩原料气的质量如何，只要经过纯化装置的处理后，进入拉晶炉的氩气，纯度始终是恒定的。一般 O2＜0.2ppm,水分＜1ppm，这样稳定的氩气对生产晶体质量是有保证的。
氩气纯化装置是针对需要使用超高纯度氩气的客户而设计的。全自动氩气纯化装置，具有触摸面板一键式启动、停止工作，操作简
6. 加氢还原系统采用质量流量计控制，真正做到定时定量全自动运行。
7. 一键式启动设备，工作状态实时显示，操作简单、安全、明了。
本装置可与区熔硅单晶炉配套使用，也可用于激光器、溅射、半导体生产、气相色谱仪、特殊灯泡、稀有金属加工等需要用高纯氩气的生产技术领域
