１．设备概要：　　硅片经过不同工序加工后，其表面已受到不同程度沾污，在进入下道工序前需要清洗。　　Ａ．清洗对象：太阳能电池用硅片　　Ｂ．材质：Ｓｉ　　Ｃ．生产能力：２０００ｐｃｓ／ｈｒ　　Ｄ．节拍：－７．５ｍｉｎ／篮（用户自定，可调）　　Ｅ．清洗篮外形有效尺寸：Ｌ７３０ × Ｗ４１０ × Ｈ２００（ｍｍ）　　Ｆ．清洗篮装载能力：２００片／篮　　Ｇ．清洗介质：碱性清洗液、纯水２．工艺流程：　　－＞自动上料　　－＞１超声波清洗　　　－＞２超声波清洗　　－＞３超声波碱液清洗　－＞４超声波碱液清洗　　－＞５超声波清洗　　　－＞６超声波清洗　　－＞７慢排预脱水　　　－＞８隧道烘干　　－＞人工下料----------------------------苏州晶洲装备科技有限公司SUZHOU KZONE EQUIPMENT TECHNOLOGY CO.,LTD.地址：江苏省常熟市辛庄光伏产业园光华环路32号网址：www.kzonetech.com电话：0512-52992666-8023
联系人：石先生keywords: PV , wafer ,polysilicon, cleaning machine, texture & washing solar cell, wet etching, acid,semiconductor,LED