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半导体激光打标机
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激光打标机原理
激光打标机是利用聚焦后高能量的激光束照射在物体表面,激光被吸收后光能瞬间转变成热能,使物质表面蒸发露出深层物质,或是通过能导致表层物质的化学物理变化而“刻”出痕迹,或是通过光能烧掉部分物质,显出需要刻的图行、文字,形成永久的标记。
半导体侧面泵浦固体激光打标机原理
半导体打标机是使用国际上先进的激光技术,用波长为808nm的半导体激光二极管泵浦Nd:YAG晶体,使晶体产生大量的反转粒子,在Q开关作用下形成波长为1064nm的高能量激光脉冲输出。通过电脑控制振镜偏转改变激光束光路实现自动打标。
设备特点
n 激光器体积小
n 电光转换效率高,性能稳定。
n 激光光斑小,标记线条精细。
n 功能低激光器使用寿命更长。
行业运用
可标记金属及多种非金属。适合应用于一些要求更精细、精度更高、打深度的加工场合。
广泛应用与电子元器件、集成电路(IC)、电工电器、手机通讯、五金制品、工具配件、精密器械、眼镜钟表、首饰饰品、汽车配件、朔胶按键、建材、食品及药品包装、PVC管材、医疗器械等行业。
半导体激光打标机系统性能指标
最大激光功率 |
CY-30W |
CY-A50W |
CY-A75W |
激光波长 |
1064nm |
1064nm |
1064nm |
光束质量(m2) |
<3 |
<5 |
<6 |
激光重复频率 |
≤50KHz |
≤50KHz |
≤50KHz |
标准雕刻范围 |
100×100 mm |
100×100 mm |
100×100 mm |
选配雕刻范围 |
50×50?250×250 mm |
50×50?-250×250 mm |
50×50?250×250 mm |
雕刻深度 |
≤0.3mm |
≤0.5mm |
≤0.8mm |
雕刻线速 |
≤7000 mm/s |
≤7000mm/s/≤10000mm/s |
≤7000mm/s/≤10000mm/s |
最小线宽 |
0.01mm |
0.015mm |
0.025mm |
最小字符 |
0.2mm |
0.3mm |
0.4mm |
重复精度 |
±0.003mm |
±0.003mm/±0.002mm |
±0.003mm/±0.002mm |
整机耗电功率 |
1.8KW |
2.0KW |
2.5KW |
电力需求 |
|
220V/单相/50Hz/15A |
|
系统外形尺寸(长×量×高)
n 主机系统:880mm×950 mm×1040 mm
n 冷却系统:550mm×400 mm×740 mm