该设备采用触摸屏PLC集中控制,装有电脑自动换挡真空计流量控制器、偏压、逆变弧电源、偏压、逆变弧电源、边装式加热管、电脑PID自动控温。
| 参数 | 型号 | 数量 |
真空室结构 | 立式前开门,双层或冷却槽冷却 |
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真空室尺寸 | ф600×670 |
| 1 |
抽气速率 | 1×105Pa~3×10-3Pa≤15min |
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极限真空 | ≤8×10-4Pa |
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系统配套 | 维持泵 | 2X-4 | 1 |
机械泵 | 2X-15 | 1 |
分子泵 | F-250 | 1 |
工件系统 | 工件系统 行星式公自转形式(转轴数量8轴,可自定数量) |
| 8 |
加热方式 | 边缘安装不锈钢加热管加热 |
| 4 |
磁控靶数量 | 1平面靶1中心靶 |
| 1 |
磁控电源 | 10KW磁控电源 | MS-10KW | 2 |
工作方式 | PLC半自动控制或PC+PLC全自动控制方式 |
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工作气体 | Ar N2 O2 |
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总功率 | 30KW |
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压缩空气 | 0.4~0.8MPa |
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水冷系统 | 水压/水温:≤25℃/≥0.25MPa(用户自备) |
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应用范围:广泛适用于镀制钛、镍、铬、金银等,是电子零件行业非常需要的多功能设备,适用于电子设备、电子零件等表面处理。