1.特点:配置先进大功率磁控电源,恒流输出,克服靶中毒。可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。
| 参数 | 型号 | 数量 |
真空室结构 | 立式前开门,双层或冷却槽冷却 |
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真空室尺寸 | Ф900×1000 |
| 1 |
抽气速率 | 1×105Pa~3×10-3Pa≤15min |
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极限真空 | ≤8×10-4Pa |
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系统配套 | 维持泵 | 2X-15 | 1 |
| 机械泵 | 2X-70 | 1 |
| 扩散泵 | KT-500 | 1 |
| 罗茨泵 | ZJP-300 | 1 |
工件系统 | 工件系统 行星式公自转形式(转轴数量8轴,可自定数量) |
| 8 |
加热方式 | 边缘安装不锈钢加热管加热 |
| 4 |
离子轰击 | 20KW逆变偏压 | PLS-20KW | 1 |
磁控靶数量 | 平面靶 |
| 2 |
磁控电源 | 20KW磁控电源 | MS-20KW | 2 |
工作方式 | PLC半自动控制或PC+PLC全自动控制方式 |
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工作气体 | Ar N2 O2 |
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总功率 | 45KW |
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压缩空气 | 0.4~0.8MPa |
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水冷系统 | 水压/水温:≤25℃/≥0.25MPa(用户自备) |
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2.性能:该系列设备主要是使用直流磁控溅射,可适应广泛镀膜靶材,如:铜、钛、铬、不锈钢、镍等金属材料,利用溅射工艺进行镀膜
3.应用范围:应用于塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材等行业。