紫外可視（250～800nm）の波長領域でのエリプソパラメータ測定が可能です。

ナノメータオーダーの多層薄膜の膜厚解析が可能です。400ch以上のマルチチャンネル分光法によるエリプソスペクトルの迅速測定ができます。反射角度可変測定により、薄膜の詳細な解析に対応しています。光学定数のデータベース化およびレシピ登録機能の追加により操作性がアップしました。多層膜フィッティング解析による光学定数測定による膜厚?膜質管理ができます。

各種膜厚計測一覧

卓上型分光エリプソメータ　FE-5000S反射分光膜厚計 FE-3000
膜厚モニター FE-300膜厚測定システム　MCPD series　

エリプソパラメータ（tanψ、cosΔ）測定光学定数 ( n ： 屈折率 , k ： 消衰係数 ) 解析膜厚解析

■半導体ウェハー
　?ゲート酸化薄膜，窒化膜
　?SiO2，SixOy，SiN，SiON，SiNx，Al2O3，SiNxOy，poly-Si，ZnSe， BPSG，TiN
　?レジストの光学定数(波長分散)
■化合物半導体
　?AlxGa(1-x)As 多層膜，アモルファスシリコン
■FPD
　?配向膜
　?プラズマディスプレイ用ITO，MgOなど
■各種新素材
　?DLC(Diamond Like Carbon)，超伝導用薄膜，磁気ヘッド薄膜
■光学薄膜
　?TiO2，SiO2，多層膜，反射防止膜，反射膜
■リソグラフィー分野
　?g線(436nm)，h線(405nm)，i線(365nm)，KrF(248nm)などの各波長におけるn，k評価

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測定レンジ 0.1 nm ～測定波長範囲 250 ～ 800 nm （オプションで350 ～ 1000 nmの選択が可能）検出器 電子冷却型一次元検出素子 512ch入射（反射）角度範囲 45 ～ 90°電源 AC1500VA (自動ステージ仕様)寸法（WDH） 1300(W) × 900(D) × 1750(H) mm重量 約 350kg (自動ステージ仕様)

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■NIST トレーサブル標準試料（SiO2薄膜）による測定精度確認
　 (フィッティング解析)