电子元件连续溅射镀膜设备，包括机体和真空抽气装置， 真空室分别为预抽室、前过渡室、溅射室、后过渡室和减压室，在溅射室内装有相对布置的金属溅射靶，在机体内还设有相配合摩擦式工件传输装置和工件架，机体外设有进片台、出片台和片架返回机构；此连续镀膜生产线具有产量大、生产成本低、膜层均匀性好、结合力强、抗高温熔蚀等优点。

特点及基本参数
 
●卧式线体结构，可实现单面同时镀膜
●生产效率,最快速度达1分钟/节拍
●模组化设计,维护方便
●镀膜工艺成熟,成品率高
●直流磁控溅射阴极可随客户要求选择
●真空系统由机械泵、罗茨泵、扩散泵(分子泵)组成
●线体尺寸可随客户要求定做