深圳市迪斯恩科技有限公司

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DSE-201光亮镀镍电镀工艺说明书

一、工艺特点：

1.具有良好的填平能力。

2.分散能力优异，白度好。

3.镀层延展性好。

二操作工艺：

硫酸镍
180-230g/L

氯化镍
40-50g/L

硼酸
35-45g/L

光亮剂DSE-201
 0.3-0.5ml/L

走位剂DSE-202
8-12ml/L

湿润剂DSE-301
 0.5-1.0ml/L

PH值
 4.5-5.0

温度
50-60°C

电压
12-15V

过滤
连续过滤

二、渡液配置：

1.注入三分之二的水于渡槽中，加热至60°C。

2.加入计量的硫酸镍及氯化镍，搅拌其完全溶解。

3.加入计量的硼酸，搅拌使其完全溶解。

4.加入2.5毫升/升双氧水，加入前先以水稀释，搅拌2小时。

5.加入活性炭2克/升，搅拌2小时后静置。

6.用过滤泵把渡液过滤澄清。

7.调整PH值至4.0（用稀硫酸或4%氢氧化钠溶液或者碳酸镍溶液调整）。

8.低电流密度（0.15-0.4A/dm2)连续电解12小时以上，或直至低电区颜色由黑变浅灰色。

9.加入计量的添加剂后，即可试镀。

三、添加剂消耗量： 

光亮剂DSE-201
150-200ml/KAH

走位剂DSE-202
150-200ml/KAH

四、渡液维护：

1.氯化镍提供氯离子帮助或促进阳极溶液，增加渡液的导电性，过高的氯化镍会造成镀层的脆性大，阳极溶解加快。

2.硼酸对渡液PH值有缓冲作用，过低的硼酸会造成镀层脆性大。

3.PH不可过高，过高PH值会造成渡液浑浊，镀层起毛刺。

五、故障于排除方法：

1.镀层出光速度慢
（1）补充光亮剂DSE-201。

(2）有机杂质干扰，活性炭处理。

2.镀层脆性大
（1）光亮剂DSE-201过高，电镀消耗或低电流

消耗。

（2）氯化镍过高，稀释渡液。

（3）走位剂DSE-202不足，补充之。

（4）有机杂质干扰，活性炭处理。

（5）金属杂质干扰，除铁剂或除杂剂处理。

3.低电流区不光亮
（1)补充走位剂DSE-202。

或发黑
(2)低电流电解或者加入除杂剂。

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