Heatpulse 8108快速退火炉(sales@tanmytech.com)
AG Associates Heatpulse 8108 Rapid Thermal Process 如果您有兴趣,请 邮件 告诉我们相关信息,我们将24小时内响应您的要求。
原制造商:AG Associates
设备类型:快速退火炉
AG Associates Heatpulse 8108系列快速退火系统具有成本低,适用面广等优点。是专门为半导体器件生产厂家快速退火工艺设计制造的退火系统,被广泛应用验证。该系统采用自动传片系统,(Video)适用于标准硅片、复合半导体材料和其他材料的晶片,晶片尺寸可从3英寸到8英寸。操作简便,自动化程度高,已广泛应用在半导体制造产业。
优越的工艺控制:
- 单片,闭环温度控制;
- 快速升温与降温控制;
- 工艺重复性高;
- SLIP FREE 特殊晶片的自动载片系统和精确的温度控制,SLIP RING可防止晶片结构在高温状态下边缘(大于1150℃) 产生滑移
- 4组加热灯可分别控制,提高温场均匀性。
工艺用途: - 离子注入后快速退火;
- 欧姆接触快速合金;
- 硅化物合金退火;
- 氧化物生长;
- 其它快速热处理工艺。
同管式高温炉的比较:
一般管式高温炉只能设定一个工艺条件,即一个温度;工艺周期长,使用不太灵活;须24小时加电恒温,能耗较高,适用于生产。快速退火炉,可以设定多个工艺条件,即多种温度;工艺时间短,使用非常灵活;能耗很低;同一台设备既可用作生产,也可用作科研,且任何科研工艺条件不会对生产工艺造成影响。
广州谭美电子科技有限公司(www.tanmytech.com)代理多家美、欧一流的半导体设备公司的产品,公司主要经营高真空磁控溅射设备、量测设备、涂胶显影设备、PECVD设备、RIE/ICP/DRIE深刻蚀设备、电子扫描显微镜、快速退火、等离子去胶、等离子刻蚀、电子束蒸发、湿法工艺设备。
我们拥有广泛的采购网络、强大的专业设备服务队伍、先进的质量检验检测手段和国际领先的软件开发和升级技术,可为客户提供各类进口半导体设备及备品备件、并提供长期优质的售后服务及技术支持保障。通过技艺精湛的设备生产、翻新,保证我们的设备具有出色的运作表现,能够满足客户的多种需求,降低客户的生产成本。
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经营产品:
- Hitachi FE-SEM 5000电子扫描显微
- Lam Rainbow 4420 4520 4620 4720
- AG Heatpulse自动传片视频
- Hitachi FE-SEM 4500电子扫描显微
- KLA-Tencor 量测设备
- Plasmalab 80 Plus RIE刻蚀
- MRC 903M 高真空磁控溅射设备
- 603-III 高真空磁控溅射设备
- MXP Multiplex ICP HR
- Plasma-Therm Unaxis 790 PECVD DR
- Semitool Spray Solvent Tool (SST
- 湿法去胶机 Semitool WST606MG
- Hitachi FE-SEM 4700电子扫描显微
- Hitachi FE-SEM 4800电子扫
- Heatpulse 8108快速退火炉
- Hitachi CD-SEM S-8820量测设备
- Heatpulse 4100快速退火炉
- Gasonics Aura 3010 等离子去胶
零件销售:
- CHI Shaped Target CHI INSET® Cathode A
- MU INSET® Cathode Assembly
- 8" Diameter DC Magnetron
- Perkin-Elmer Delta RF/DC Magnetron
- 各类机械手控制器平边器
- 碳化硅 (SiC)-Susceptor
- Heatpulse 8800 Quartz Parts
- Heatpulse 8108 Quartz Parts (石英
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