工作原理 当真空室达到一定真空度时，利用大电流蒸发电源加热蒸发源钨丝，使蒸发材料铝加热升华，并飞行到工件表面沉积成膜。蒸发过程完成后，将均匀充入室体汽化的聚合物质（HMDS）硅基化合物通过流量控制系统充入真空室至适当的压强，将轰击电源施加在电极板上，产生辉光放电形成低温等离子体，由单体气体中少量电子从外加电场中获得能量，再与单体气体分子发生碰撞，产生多种活性中心。其中一些活性基团（高浓度的初始生成自由基）进行高分子单体聚合反应，以薄膜的形式淀积在工件表面形成透明保护膜。