功能及用途说明：主要用于（1）利用强酸氢氟酸，磷酸，硝酸，盐酸，冰醋酸等及其酸混合物对金属的溶解或者氧化还原反应过程，实现金属膜的图案化；（2）通过剥离液和光刻胶的化学反应，使光刻胶膨胀软化并溶解；（3）处理完后基片清洗与干燥。基本功能：实现低温多晶硅工艺中ITO,Al,Cr,Mo,SiO2,IGZO等膜的图案化和光刻胶的剥离以及接下来玻璃基板清洗干燥。