美国MKS INSTRUMENTS成立于1961年，作为半导体零部件的供应商，在气体、真空仪器及制程控制应用等方面有技术独到之处，美国MKSINSTRUMENTS产品起源于压力测量和控制核心技术，延伸到材料递送、气体成分分析、静电荷控制、工艺控制、信息管理、电源和反应气体发生器及真空技术，其产品广泛地应用于各种半导体生产设备和制造过程中。
　 美国MKS INSTRUMENTS电源、测量、控制和复杂气体相关的工艺监控技术等改善了设备的完好率和产品成品率，提高了生产产量和产品性能． 　　美国MKS INSTRUMENTS目前产品主要包括：压力测量和控制系列的电容薄膜压力传感器、模拟和数字压力控制仪器和阀等提供半导体工艺上、下游压力控制设备；质量流量控制器测量和控制半导体工艺中各种高纯度、高精度气体流量；射频、直流及脉冲等离子电源、匹配器及测试工具为半导体工业提供了可靠的固态电源；STEXI系列产品提供诸如用于工艺腔清洁的ASTRON氟离子发生器，用于去胶工艺的R*EVOLUTION等离子源，用于CVD、ALD和清洗的SEMOZON气态和LIQUOZON液态臭氧发生器；另外美国万机仪器MKS NSTRUMENTS还提供更广泛的真空产品、气体分析仪、静电控制、控制及信息技术等系列解决方案。