【供应PVD-IV真空气相沉积装置】价格_厂家

品牌

PVD

型号

PVD-IV

类型

化学气相沉积装置

PVD型真空气相沉积装置简介

绵阳西磁科技有限公司，成立于1994年1月，位于风景秀丽的绵阳国家高新技术开发区，占地面积40000平方米，建筑面积18000平方米，注册资本1567.5万元。是中国电子科技集团公司电子九所全资子公司，是我国磁学领域最大的综合性应用磁学研究机构。

公司拥有雄厚的技术力量和丰富生产设计经验，在真空铸片快淬.真空烧结和退火及真空气相沉积(CVD),磁选除铁和选矿,合金制粉、制粒等装备的设计、制造方面具有独特优势。公司的产品性能可靠，运行稳定，操作简便，维修方便，节能省电，工作效率高，深受用户的信赖

PVD型真空气相沉积装置外型见上图

一、概述

ParyLene材料，属于一种具有完全线性结构的高分子聚合物。PARYLENE表面涂敷采用一种特殊的化学气相沉积工艺（CVD ），整个反应过程在真空条件下进行,工作原理:晶体粉料→加热气化→加热裂解→活性中间体→气相沉积。PVD型真空气相沉结装置就是根据PARYLENE材料的化学特性与工程应用要求设计的，具有手动/自动工作方式，自动化程度高，操作简单。其涂层具有厚度均匀、同形性好、无针孔、绝缘强度高、介电损耗小、无残余应力、热稳定性好，具有耐化学、霉菌和细菌侵蚀、机械性能好等优点。可广泛应用于电子、机械、医疗器械等行业，尤其适合磁性材料行业的防腐和绝缘。

二、主要技术指标

1、工作室容积	φ448mm×700mm
2、处理量	≥30 公斤/炉
3、粉料仓容积	φ145mm×300mm
4、粉料仓加热温度	0～250℃
5、辅助加热温度	0～180℃
6、仓门加热温度	0～250℃
7、裂解炉工作温度	0～800℃
8、冷阱工作温度	≤-70℃
9、真空度	4×10-1 Pa
11、料架旋转速度（连续可调）	3～15r/min
12、工作方式	手动/自动