用途：

适用于金属、光学镜头、光纤、微晶玻璃基板、晶体表面、宝石、玻璃制品、半导体材料、塑料等方面的精密抛光。

特点：

1.抛光质量稳定，粒度可控，颗粒度分布集中。

2.软硬度适中、不划伤被抛物面，可用于研磨或镜

  面抛光。

3.分散悬浮性好，不易沉淀，乳液均一。