扫描电子显微镜&X射线能谱仪应用介绍 扫描电子显微镜/ X射线能谱仪（S E M & E D S）理论依据是电子与物质之间的相互作用。如图1所示，当一束高能 的入射电子轰击物质表面时，被激发的区域将产生二次电子、俄歇电子、特征射线和连续谱X射线、背散射电 子、以及在可见、紫外、红外光区域产生的电磁辐射。原则上讲，利用电子和物质的相互作用，可以获取被 测样品本身的各种物理、化学性质的信息， 如形貌、组成、晶体结构、电子结构和内部电场或磁场等等。 S E M / E D S正是根据上述不同信息产生的机理，对二次电子、背散射电子的采集，可得到有关物质微观形貌的信 息，对x射线的采集，可得到物质化学成分的信息。 应用范围 1．材料组织形貌观察，如断口显微形貌观察，镀层表 面形貌观察， 微米级镀层厚度测量， 粉体颗粒表面 观察，材料晶粒、晶界观察等； 2． 微区化学成分分析， 利用电子束与物质作用时产生 的特征X射线，来提供样品化学组成方面的信息，可 定性、半定量检测大部分元素（Be4-PU94），可进 行表面污染物的分析； 焊点、镀层界面组织成分分 析。根据测试目的的不同可分为点测、线扫描、面 扫描； 3．显微组织及超微尺寸材料分析，如钢铁材料中诸如 马氏体、回火索氏体、下贝氏体等显微组织的观察 分析，纳米材料的分析； 4． 在失效分析中主要用于定位失效点， 初步判断材料 成分和异物分析。 主要特点
