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1、等离子显示屏的介质保护膜及其制备方法和等离子显示屏
[简介] 本技术提供了一种等离子显示屏的介质保护膜，其制备方法及含有其的等离子显示屏。该介质保护膜包括氧化镁层；以及设置在氧化镁层上表面的绝缘氧化物层，绝缘氧化物层的材料选SiO<>2<>、TiO<>2<>、ZnO、Ba
2、等离子显示屏的介质保护膜及其制备方法和等离子显示屏
[简介] 本技术提供了一种等离子显示屏的介质保护膜及其制作方法和含有其的等离子显示屏。本技术提供的制作方法包括以下步骤1在介质层上制备介质保护层；2在介质保护层上形成晶粒层，介质保护层和晶粒层形成介质保护膜。根据本
3、等离子显示屏的介质保护膜及其制作方法和含有其的等离子显示屏
[简介] 本技术提供了一种等离子显示屏的介质保护膜及其制作方法和含有其的等离子显示屏。该制作方法包括以下步骤1在介质层上布置晶种层；2在晶种层上形成介质保护膜。根据本技术的制作方法艺过程简，采用现有设备即可实施
4、等离子显示屏的介质保护膜及其制作方法和含有其的等离子显示屏
[简介] 本技术开了一种气体放器件介质保护膜、其成膜材料及包括其的等离子显示屏。该成膜材料由MgO和掺杂物质MO组成，其，掺杂元素M与Mg元素的摩尔比为x∶1-x，005≤x≤05，掺杂元素的离子半径与Mg2+半径相当。本技术的介质
5、气体放器件介质保护膜、其成膜材料及包括其的等离子显示屏
[简介] 本技术的等离子显示屏1的维持极15与极16上的保护膜14的主成分均含有CaO和SrO，而该保护膜14的CaO浓度为20mol％以上、90mol％以下。由于此种保护膜14的功函数比以往的MgO膜小，故可用比以往更低的放
6、等离子显示屏用保护膜及其制造方法、等离子显示屏及其制造方法
[简介] 本实用新型的等离子显示屏保护膜耐溅射性的测试装置，其特征是在镀有一定厚度的保护膜2的玻璃基片1上覆盖具有特定形状的金属掩膜4，将玻璃基片1放入射频溅射镀膜3的靶6置上以高频溅射一定时间后，测量
7、等离子显示屏保护膜耐溅射性的测试装置
[简介] 本技术的等离子显示屏保护膜耐溅射性测试方法及其装置，其特征是在镀有一定厚度的保护膜2的玻璃基片1上覆盖具有特定形状的金属掩膜4，将玻璃基片1放入射频溅射镀膜3的靶6置上以高频溅射一定时间后，测
8、等离子显示屏保护膜耐溅射性测试方法及其装置
[简介] 本技术针对目前等离子显示屏保护膜材料子发射性能测试方法对设备要求过高，价格过于昂贵且信噪比不高等问题，开了一种等离子显示屏保护膜材料性能测试方法及系统，它包括在子束蒸发镀膜的真空室1用子2
9、等离子显示屏保护膜材料性能测试方法及系统
[简介] 本实用新型针对目前等离子显示屏保护膜材料子发射性能测试方法对设备要求过高，价格过于昂贵且信噪比不高等问题，开了一种等离子显示屏保护膜材料性能测试方法及系统，它包括在子束蒸发镀膜的真空室1用子
10、等离子显示屏保护膜材料性能测试系统
[简介] 本实用新型提供了一种等离子平板显示屏的氧化镁保护膜蒸镀支撑载具，包括支撑主体11和设置在所述支撑主体11上的多个支撑块12；每个所述支撑块12均包括与所述支撑主体11相连的支撑底座121，其上设置有支撑杆
11、等离子平板显示屏的氧化镁保护膜蒸镀载具及支撑载具
[简介] 本技术开了一种MgO介质保护膜制备方法、显示屏及等离子视涉及薄膜蒸镀和气体辉光放技术。本技术的目的在于提供加入一定量H2O的MgO介质保护膜制备方法，及一种降低缩短放延迟时间的等离子显示屏与等离子视
12、一种MgO介质保护膜制备方法、显示屏及等离子视
[简介] 具有角度控制的等离子体显示屏介质保护膜形成装置，包括镀膜室，其上方设置有基板传输构和加热器，其开口处设置开口板，其内部设置环形炉床，镀膜室的壁上与炉床对应处设置子，在镀膜室内还设置有角度控制装置。本技术
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