一、设备简述

　　　 这是一台由电子束热蒸发镀膜室、进出样室组成的双室超高真空镀膜设备，主要部分包括：镀膜室的分子泵+吸附泵超高真空抽气系统、进出样室的分子泵高真空抽气系统、E型电子枪、样品传递机构、真空测量、膜厚测试、电控系统等。
　　　 电子束热蒸发镀膜室采用E型270°电子枪，用于镀制各种单层膜、多层膜膜系，可用于镀制金属材料及高熔点（难熔）材料。

　　　 1、设备的电子束蒸发室采用前开门结构，便于电子枪的安装与检修。镀膜室内壁加装可拆卸不锈钢防污衬板，便于拆装清洗维护。
　　　 2、电子束镀膜室：
　　　 配一台超高真空6KW E型270°电子枪，配四穴水冷坩埚，坩埚为无氧铜材料，配PLC控制系统和液晶触摸屏，系统智能控制水平高，工作稳定可靠，自动控制坩埚选择定位。
　　　 为了保证镀膜的工艺性（预蒸发、多层膜、掺杂膜、防止交叉污染和干扰等），电子枪坩埚配备挡板。
　　　 电子枪室观察窗加装铅玻璃，起到防护作用。
　　　 3、配装超高真空闸板阀、手动高真空挡板阀、手动挡板、微机型复合真空计、电脑温控仪等。
　　　 4、基片可倾斜、可旋转、可升降，变于镀膜工艺参数的调整和取得。
　　　 5、由于采用了超高真空密封技术，极限真空度可达2X10-6 Pa，可保证更高的镀膜纯净度，提高镀膜质量。
　　　 6、恢复工作背景真空时间短，从大气到工作背景真空（6×10-5 Pa）时间30分钟左右（充干燥氮气）。
　　　 7、系统停泵关机12小时后，测系统真空度≤10Pa。
　　　 8、超高真空密封主要采用如下技术：玻璃金属焊接技术、陶瓷金属焊接技术、刀口无氧铜金属密封技术等；整机除真空室门用氟胶圈外均采用金属密封技术，真空管路用不锈钢金属波纹管路。运动部件的密封，采用磁力耦合动密封技术。真空规采用刀口金属密封结构的金属规。
　　　 9、玻璃观察窗带内衬玻璃挡板，可拆卸清洗；
　　　 10、真空抽气管路上加装冷阱和过滤器，然后经机械泵外排。
　　　 11、配晶体膜厚测试仪，实时监控镀膜过程。
　　　 12、系统自动监控和保护功能强，包括缺水欠压检测与保护、相序检测与保护、温度检测与保护等。

　　　 1 、实验室工作环境条件：供电 ～380V三相五线供电系统（容量10KW）；
　　　 冷却水循环量：0.3M3/H（用去离子水）；
　　　 冷却水温度20℃～30℃
　　　 工作环境温度：10℃～35℃，
　　　 设备占地面积：4m×1.5m。
　　　 气动阀门供气压力：0.4～0.6MPa。
　　　 质量流量控制器输入压力： 0.05～0.2MPa。
　　　 2、镀膜室：极限真空：2X10-6 Pa；
　　　 工作背景真空：5×10-5 Pa；
　　　 样品交接后恢复工作真空时间30分钟。
　　　 系统停泵关机12小时后，测系统真空度≤10Pa。
　　　 3、基片转动、升降、角度：手动调整，刻度显示。
　　　 4、基片尺寸：≤Ф51mm。
　　　 5、电子枪电源6kw，电子束偏转角270o ，四穴水冷无氧铜坩埚，坩埚可电动换位，配PLC电脑及液晶触摸屏。
　　　 6、膜厚测试仪配双路水冷探头。
　　　 7、进出样室样品储存数量：4件。
　　　 8、系统检测保护功能：缺水欠压检测与保护、相序检测与保护、温度检测与保护、真空检测与保护。