AJA国际公司的ATC 离子束刻蚀系统用途广泛，可根据需求定制化配置。
根据用户应用特点，这些定制化系统采用了超高性能的基片支架和离子束源。腔室大小从直径10"-22"不等，还能够配置电脑控制系统，预真空室，自动 装 加载和可带光罩交换系统的6卡槽片盒站。
这些系统的特点是具有独一无二的刻蚀平台设计，在相当广泛的工艺应用中它可以最大容纳直径为8”的样品，从微纳模式描绘到晶圆平展化。这些基片支架由AJA独立设计与生产，并且还有许多市场需要的功能特性可供选择，比如冷却，偏转和旋转系统。 
针对冷却系统，我们可以提供多种方式，包括水冷，液氮和背部氦气或氩气结合冷却，带有同步旋转和偏转功能。
AJA 生产并集成了大量的技术先进的有栅极，无栅和RF射频离子束源，能够很容易地配置到相应设备上，包括反应和惰性刻蚀工艺。这些离子束源能够根据您的需求安装，直接对准基片或成一定入射角。

 
AJA致力于研发生产薄膜沉积系统，包括磁控溅射系统，电子束蒸发系统，热蒸发系统和离子束刻蚀系统。1989年William Hale在美国马萨诸塞州创立了AJA这个品牌，开始是以物理气相沉积产品供应商问世。随着越来越多的系统和磁控溅射源畅销世界，AJA国际公司不断突破自己，发现更多创新设计解决方案。其中一些方案一直被模仿，但从未被超越。AJA始终保持着薄膜技术领域的前沿地位。

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