北京晶伏华控电子设备有限公司生产的：硒化炉、太阳能硒化炉、低压硒化炉、真空硒化炉主要用于：基片的硒化处理、氮化硅镀膜、铜铟镓硒薄膜太阳能电池、陶瓷电容器（MLCC）等的气氛烧结硒化等工艺。本设备关键部件全部进口，仿造欧美技术，具有：温度均匀、控制稳定、温区间温度扰动小、升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点，是理想的科研设备。
一、硒化炉主要技术指标
1. 设计温度：1000℃
2. 炉膛材质：优质气炼石英管
3. 恒温区：400mm（可根据客户定制）
4. 热偶数：石英管外4个测温点，采用4支铂铑热电偶；石英管内3个固定测温点。
5. 加热元件：优质电阻丝
6. 加热功率：3-30KW
7. 气路：视客户需求，可选浮子流量计或质量流量计（MFC）
8. 极限真空 ：机械泵+扩散泵（优于5.0X10-3Pa）或机械泵+分子泵（优于5.0X10-4Pa）
9. 控温精度：±0.5℃。
10. 电源：三相五线制，AC380V 50Hz。
11.温控表：日本岛电高精度温控仪。
12.最大升温速率：15℃/Min
13.所有气路管件包括阀门均采用耐腐蚀不锈钢
北京晶伏华控电子设备有限公司可根据客户需求定制各种非标：热处理硒化炉炉、高温硒化炉、真空硒化炉、低压硒化炉、气氛硒化炉、太阳能硒化炉、管式硒化炉、扩散炉、真空扩散炉、焊接炉、真空烤盘炉、气氛炉、扩散炉控制系统、真空炉、隧道炉、氧化炉、退火炉、升华炉等各种工业电炉、实验电炉等高温设备。专业团队个性化定做，欢迎广大客户来电来函。
