电子工业超纯水设备

   半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。应用行业

     纯水、超纯水设备常用于电子、半导体、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路 、精密机械行业超纯水，食品、饮料、饮用水的制备，精细化工、精尖学科用水，其他行业所需的高纯水制备，制药工业工艺用水，海水、苦咸水的淡化，制药行业用水大输液、针剂、片剂、生化制品、设备清洗等，海水、苦咸水淡化，汽车、家电涂装、镀膜玻璃、化装品、精细化学品等用超纯水。

工艺流程

2.制备电子工业超纯水的工艺流程

电子工业制备超纯水的工艺大致分成以下3种：

1、采用离子交换树脂制备电子工业超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→阳床→阴床→混床（复床）→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点

2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合制备电子工业超纯水的方式，其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→混床（复床）→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点

3、采用反渗透设备与电去离子（EDI）设备进行搭配制备电子工业超纯水的的方式，这是一种制取超纯水的新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子（EDI）→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点

电子工业超纯水设备特点

     电子工业超纯水设备通常由多介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等构成预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等构成主要设备系统。原水箱、中间水箱、RO纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、高低压水泵均设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人值守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使该设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

RO纯水系统

  反渗透水处理设备（膜分离）技术的应用使反渗透超纯水设备从传统的阳离子交换器、脱碳、阴离子交换器、复合离子交换器得到了一次进步。        近年来开始在国外推广应用的EDI（电去离子）技术，则是超纯水制造技术的一次革命，从此进入了一个无需再生化学品，而能生产出高达18MΩ·CM的超纯水，用于半导体、集成电路等行业。　

      反渗透超纯水设备是采用专用RO技术设计，关键部件、设备采用进口名牌产品，工艺先进，质量可靠，可扩展性强，结构合理占地小，水利用率高，能耗低，全自动化运行，操作维护简单。一般产水下限0.25m3/hr，上限不限，水回收率一般可达75%以上，脱盐率＞98%。产水量随进水温度下降和反渗透膜老化或受污染有一定变化。

反渗透超纯水设备典型工艺流程为：

1、 预处理－反渗透－纯化水箱－离子交换器－紫外灯-纯水泵－用水点

2、 预处理－一级反渗透－二级反渗透（正电荷反渗膜）－纯化水箱－纯水泵-紫外灯－用水点

3、 预处理－反渗透－中间水箱－中间水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵-紫外灯－用水点

4、 预处理→紫外线杀菌装置→一级RO装置→二级RO装置→中间水箱→EDI装置→脱氧装置→氮封纯水箱→除TOC UV装置→抛光混床→超滤装置→用水点

水质符合美国ASTM标准，电子部超纯水水质标准（8MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四级）

mini弃流

产品概述

Mini弃流是我公司根据小型商务楼、办公楼、别墅等小型收集面的特性，专门设计开发的一款小型雨水弃流过滤装置。本产品可安装于墙壁，地面雨水检查井内，完成小面积雨水的弃流。

产品特点

1、外形美观2、自动控制3、使用方便4、零能耗、绿色环保

技术参数型号进出水口尺寸弃流口尺寸外壳尺寸（mm）设备款式过滤精度（mm）材质安装方式LD-211DN100DN50200×300×500（高）方形0.4不锈钢304串联立管安装LD-221DN100DN50Φ=250  H=500圆柱形0.4不锈钢304串联立管安装